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美國大學研發出原子級薄的材料
2015年01月04日 發布 分類:技術前沿 點擊量:2557
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      據科學日報報道,美國萊斯大學研發的一個原子級薄的材料,這或可能導致研發目前最薄的成像平臺。基于金屬硫族化合物的合成二維材料可能是超薄設備的基礎,萊斯大學的研究人員這樣表示。其中一個這樣的材料二硫化鉬,因其檢測光的特性而被廣泛研究,但是銅銦硒化物(CIS)也表現出同樣非凡的潛力。

(來源:鳳凰網)

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